TRUMPF是一家全球領(lǐng)先的德國高科技企業(yè),成立于1923年,總部位于斯圖加特附近的迪琴根(Ditzingen)。公司專注于工業(yè)激光技術(shù)、機(jī)床、電子設(shè)備及智能制造解決方案,產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于汽車、航空航天、電子、醫(yī)療等行業(yè)。TRUMPF在激光技術(shù)領(lǐng)域尤其突出,是全球極少數(shù)能提供極紫外(EUV)光刻機(jī)所需激光光源的供應(yīng)商之一,支撐半導(dǎo)體制造中的先進(jìn)制程(如7nm及以下芯片生產(chǎn))。
TRUMPF為ASML的EUV光刻系統(tǒng)提供關(guān)鍵的 CO?激光等離子體(LPP)光源 技術(shù)。以下是其EUV相關(guān)核心產(chǎn)品與技術(shù):
型號:TRUMPF CO?激光放大器系列
用于激發(fā)錫滴產(chǎn)生等離子體,生成13.5nm波長的EUV光。
高功率、高穩(wěn)定性,支持ASML的NXE系列EUV光刻機(jī)。
功能:通過YAG激光器對錫滴進(jìn)行預(yù)整形,確保CO?主激光高效激發(fā)等離子體。
EUV光刻系統(tǒng),其激光光源技術(shù)是EUV光刻機(jī)的核心組件之一。
TRUMPF直接公開EUV激光光源的詳細(xì)型號參數(shù)(因涉及尖端技術(shù)保密)。
TRUMPF在EUV領(lǐng)域的激光技術(shù)主要基于高功率CO?激光系統(tǒng)(如30kW級激光器),具體型號可能以定制化方案為主。
更詳細(xì)的EUV技術(shù)資料需通過來提供項目詳情獲取,歡迎咨詢。